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離子膜燒堿

離子膜燒堿

來源:
時間:2025-05-26

燒堿:

濃度:31%、45%

執(zhí)行標準:工業(yè)用氫氧化鈉GB 209-2006? 高純氫氧化鈉GBT11199-2006

性質:化學名稱為氫氧化鈉,本品為略帶粘稠液體,具有強氧化性,能與酸、鹵素物質起化學反應。

工藝:離子膜法。離子膜燒堿裝置采用的模極距自然循環(huán)電解槽在國內同行業(yè)中是領先的,該技術的應用在燒堿消耗上和國內同行業(yè)比每噸節(jié)省約100度電。

用途:廣泛用于化工、冶金、造紙、石油、紡織品以及日用化工等部門。

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